光刻机是一种什么设备 _知识经验

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光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统和光刻系统，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。光刻机可以分为接触曝光、接近曝光和投影曝光。
光刻机的工作原理是通过一系列控制光源能量和形状的手段，使光束透过带有电路图的掩模，通过物镜补偿各种光学误差，将电路图按比例缩小并映射到硅片上。然后用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
一般的光刻工艺要经过硅片表面清洗干燥、底部涂覆、旋涂光刻胶、软烤、对准曝光、后烤、显影、硬烤、激光刻蚀等过程。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，所以世界上只有少数厂家掌握。
光刻机品牌众多，根据技术路线的不同可以分为以下几类:高端投影光刻机分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在七纳米到几微米之间。高端光刻机被称为世界上最精密的仪器，全球已经有1.2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学产业之花，其制造难度之大，全球只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要是荷兰ASML、日本尼康、日本佳能。
【光刻机是一种什么设备】以上说明了光刻机是一种什么样的设备。本文到此结束，希望对大家有所帮助。