每天都要电解去杂质 你的方法正确吗?

电解处理是大家在电镀工业中常用的去除杂质的方法 。 电解处理亦是一个电镀过程 , 不过它不是以获得良好电镀层为目的 , 而是以去除杂质(或调整镀液成分含量)为目的 。 所不同的只是在阴极上不吊挂零件 , 而是改为吊挂以去除杂质而制作的电解板(又称假阴极) 。 在通电的情况下 , 使杂质在阴极电解板上沉积、夹附或还原成相对无害的物质 。 在少数情况下 , 电解去除杂质也有在阳极上进行的 , 使某些能被氧化的杂质 , 在通电的情况下 , 到达阳极上氧化为气体逸出或变为相对无害的物质 。
一、电解法适用于去除容易在电极上除去或降低其含量的杂质
电解法适用于容易在电极上被氧化或还原除去或降低其含量的杂质 。 电位较正的杂质离子危害大一些 , 容易用电解法去除;反之 , 电位较负的杂质离子危害小一些 。
氰化物对许多金属离子都有配位化合作用 , 使得它们的析出电位变负 , 不容易电解析出 。 氰化镀铜或铜合金、氰化镀银、氰化镀金(包括酸性镀金)镀液 , 如果使用低电流电解 , 则成为正常电镀了 , 阴极上析出的主要是铜或铜合金、银、金 , 对去除重金属杂质是无效的 。 铅杂质虽能和氰化物发生配位化合反应 , 铅杂质与氰配位化合离子很不稳定 , 在pH值等于4时几乎全部水解了 。 Pb“电极电位也比较正 , 容易在阴极低电流区电沉积 , 因此 , 除酸性镀硬金镀液外 , 氰化物镀液中的铅杂质可以用低电流电解去除 。
而当金属杂质的析出电位较负时 , 需用较大的阴极电流密度电解 , 但是镀层金属损失过大 。 如氯化钾镀锌溶液中的铁杂质 , 其影响在中高电流区 , 如果非要用电解去除 , 只能选用大电流处理 , 这样做则锌的损失太大了 , 所以不能用电解法而是适合采用化学法处理 。
【每天都要电解去杂质 你的方法正确吗?】二、电解条件的选择
这里所指的电解 , 目的是要去除镀液中的杂质 , 但是在电解去除杂质的同时 , 往往也伴随有溶液中主要金属离子的放电沉积 。 为了提高去除杂质的速率 , 减慢溶液中主要金属离子的沉积速率 , 就要注意电解处理的操作条件 。
①电流密度:电解处理时 , 以控制多大的电流密度为好 , 原则上要按照电镀时杂质起不良影响的电流密度范围 。 也就是说 , 在电镀过程中 , 若杂质的影响反映在低电流密度区 , 那么电解处理时应控制在低电流密度下进行 , 假使杂质的影响反映在高电流密度区 , 则应选用高电流密度进行电解;如果杂质在高电流密度区和低电流密度区都有影响 , 那么可先用高电流密度电解处理一段时间 , 然后再改用低电流密度电解处理 , 直至镀液恢复正常 。 在一般情况下 , 凡是用低电流密度电解可以去除的杂质 , 为了减少镀液中主要放电金属离子的沉积 , 一般都采用低电流密度电解 。 事实上 , 电镀生产中 , 多数杂质的影响反映在低电流密度区 , 所以通常电解处理的电流密度控制在O.1A/dm2~O.5A/dm2之间 。
②温度和pH值:电解处理时温度和pH的选择 , 原则上也是要根据电镀时杂质起不良影响较大的温度和pH范围 。 例如镀镍溶液中的铜杂质和NO3-杂质 , 在pH较低时的影响较大 , 所以电解去除镀镍溶液中的铜杂质和NO3-杂质时 , 应选用低pH进行电解 , 在这样的条件下 , 去除杂质的速率较快 。 有些杂质在电解过程中会分解为气体(如NO3-在阴极上还原为氮氧化物或氨 , Cl-在阳极上氧化为Cl2 , 等 , 这时就应选用高温电解 , 使电解过程中形成的气体挥发逸出(气体在溶液中的溶解度 , 一般随温度升高而降低) , 从而防止它溶解于水而重新沾污镀液 。