慕朗迪光刻机(lithography 光刻机是谁发明的) _经验分享

品牌型号：慕朗迪光刻机系统：k12

文章插图
光刻机是法国人Nicephore niepce(尼埃普斯)最初是发明的Nicephore niepce我发现了一个可以刻在油纸上的痕迹。当它出现在玻璃板上时，经过一段时间的暴露，透明部分会变得非常硬，但不透明部分可以用松香和植物油洗掉。
【慕朗迪光刻机(lithography 光刻机是谁发明的)】光刻机（lithography）又称：掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它采用类似的照片印刷技术，通过光线曝光将掩膜版上的精细图形印在硅片上。光刻机的主要性能指标有：支持基板尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是描述光刻工艺加工中最细线精度的方法。光刻的分辨率受光源衍射的限制，因此受光源、光刻系统、光刻胶和工艺的限制。对准精度是多层曝光时层间图案的定位精度。曝光分为接触式、投影式和直写式。曝光源波长分为紫外线、深紫外线和极紫外线区域，光源有汞灯、准分子激光器等。