Magnetron sputter,Magnetron Sputtering特点

magnetron是什么意思magnetron [英]['mægnɪtrɒn][美]['mægnəˌtrɒn]n.磁电管;网络 磁控电子管; 磁控[电子]管; 磁控管;双语例句 1 Helium-charged Al films are prepared by direct cur 。

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单晶硅用英语怎么说单晶硅 [词典][计]monocrystalline silicon;[例句]利用非平衡磁控溅射技术在单晶硅基底上沉积了类石墨非晶碳膜 。
Graphitelike carbon film was deposited on silicon substrates by unbalanced magnetron sputtering.
磁控溅射的分类都有哪些?1. 直流磁控溅射(DC Magnetron Sputtering):在直流电场下,通过以靶材为阴极的方式,产生靶材表面的离子化,再将离子加速后轰击基板,形成相应的薄膜 。
2. 射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering):利用射频交变电场和靶材表 。
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磁控溅射的不同金属薄膜与基底的粘附性取决于什么因素,具体是如何影 【Magnetron sputter,Magnetron Sputtering特点】磁控溅射(Magnetron Sputtering)是一种常用的金属薄膜沉积技术,它能产生高质量、均匀的金属薄膜 。
薄膜与基底的粘附性是评价溅射过程质量的重要指标之一,它受多种因素影响:1. **基底表面处理**:基底表面的清洁度、平整度 。