晶闸管可控硅的发展历史 _知识百科

【晶闸管可控硅的发展历史】从目前电子工业的发展来看，尽管有各种新型的半导体材料不断出现，但是半导体材料中98%仍是硅材料，硅材料仍是集成电路产业的基础，其中可控硅具有体积小、重量轻、功率高、寿命长等优点而得到了广泛的应用。本文主要通过论述单向可控硅（普通可控硅)、双向可控硅的基本原理、主要参数以及在常用电器中的应用，以此给读者简单介绍一下可控硅。
半导体硅材料自从60年代被广泛应用于各类电子元器件以来，其用量平均大约以每年12~ 16%的速度增长。半导体硅材料以丰富的资源、优质的特性、日臻完善的工艺以及广泛的用途等综合优势而成为了当代电子工业中应用最多的半导体材料。六十年代末七十年代初，在全国曾掀起过一一个“可控硅”热。这个热潮持续甚久，影响很大，因而国内至今仍有人认为功率半导体的主体就是可控硅。七十年代末，可控硅发展成为一个大家族并冠以--个标准化的名称“晶闸管” 。
由于以开关技术调节功率，所以在器件上的损耗很小，因此被誉为节能的王牌。其应用更是遍及各个领域。
六七十年代，各种类型的晶闸管有很大的发展，其服务对象是以工业应用为主，包括电力系统、机车牵引等。到了八九十年代，由于功率MOSFET的兴起，使电力电子步入了一个新的领域,为近代蓬勃发展的4C产业:即communication、computer、consumer、car (通信、计算机、消费电子、汽车)提供了新的活力。
二十一世纪前后，功率半导体器件的发展进入了第三阶段，即集成电路结合愈来愈紧密的阶段。从目前电子工业的发展来看，尽管有各种新型的半导体材料不断出现，但硅仍是集成电路产业的基础，半导体材料中98%是硅。半导体器件的95%以.上是用硅材料制作的，90%以上的大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)、甚大规模集成电路(ULSI)都是制作在高纯优质的硅抛光片和外延片上的。硅片被称作集成电路的核心材料，硅材料产业的发展和集成电路的发展紧密相关。
半导体硅材料分为多晶硅、单晶硅、硅外延片以及非晶硅、浇注多晶硅、淀积和溅射非晶硅等。晶闸管又叫可控硅。自从20世纪50年代问世以来已经发展成了一个大的家族，它的主要成员有单向晶闸管(就是人们常说的普通晶闸管)、双向晶闸管、光控晶闸管、逆导晶闸管、可关断晶闸管、快速晶闸管，等等。
当功率半导体器件不断发展时，前阶段的主导产品并未退出历史舞台，晶闸管至今仍是一种重要产品。

晶闸管 可控硅的发展历史

晶闸管可控硅的发展历史